在半导体工业中漂洗水里所含的有机化合物会影响产品的产量和质量。因此规定水中的总有机碳（TOC）污染物的含量不得超过百万分之一（ppb），即在此应用中只能适用超纯水。

紫外照射技术的最新发展使其成功地引入半导体、制药、化妆品，保健品等工业的超纯水制造中，此项技术不仅在消毒方面发挥巨大作用，在降低TOC，去除臭氧和氯方面也效果显著。

制药业和其他行业的生产过程，由于生产工艺要求易造成微生物污染和生物污染，而紫外线可以作为一道有效的屏障，确保纯化水水质不对任意生产工艺或阶段产生影响，同时确保工艺下游的处理设备也能最优运行，从而减少停机频次或时间。

在这一应用使用两种UV波长，254nm和185nm，254nm波长的紫外光用于消毒作用，同事能破坏水中残留臭氧分子。185nm辐射能分解有机物分子，他比254nm波长能量更高。能从水分子中分解出自由羟基，从而将有机物氧化分解成CO2和水，从而降低了水中的TOC含量。

产品介绍：

高强度臭氧紫外线杀菌灯，SUS304不锈钢材质，具有良好的杀菌效果，有效减少对超纯水的影响。

安全可靠：设备耐压0.6MPa，防护等级IP68，紫外零泄漏，

安装简单，设备维护方便，现场人员即能完成操作和维护。

没有任何化学物质的参与，不影响产品的稳定性。不会含有任何不需要的化学残留物、颜色或者气味。